2-27ｼﾅﾘｵ：ＶＡＤ製造法の原理と特徴

石英系光ファイバの合成には、大きく2種類の化学反応が用いられる。

VADの特徴と課題は、・・・

CVD＝半導体プロセス＝超高純度化はOK

MCVD法（熱酸化法）：

　　GeCl4＋O2→GeO2＋２Cl2

　　SiCl4＋O2→SiO2＋２Cl2

　＊反応が遅い～１ｇ/分

　＊屈折率制御が容易＝精密屈折率制御に適する

　＊MCVD法、PMCVD法、PCVD法

VAD法(火炎加水分解法）：

　　GeCl4＋O2＋２H2→GeO2＋８HCl

　　SiCl4＋O2＋２H2→SiO2＋８HCl

　＊高速合成～５ｇ/分

　＊OVD法、VAD法（スートプロセス）

　？脱OH　→脱泡熱処理技術

　？屈折率分布　for グレーディッド型←温度分布で形成

　？細径コア for 単一モード用